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單靶等離子濺射鍍膜儀（... 本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高...
單靶等離子濺射鍍膜儀（... 本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高...
單靶等離子濺射鍍膜儀（... 本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高...
全自動加熱旋涂儀勻膠機可將液態(tài)或膠體材料涂覆于硅片、晶體、石英、陶瓷等基材形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制備、聚合物薄膜的溶膠-凝...
四噴頭超聲波勻膠機旋涂... 四噴頭超聲波勻膠機是一種面向未來的gaoduan微納加工設備。它解決了傳統(tǒng)勻膠技術在三維、異質集成和昂貴材料應用中的根本...
全自動勻膠機旋涂儀全自動勻膠機旋涂儀是一種基于離心力原理的精密涂覆設備，通過程序化控制基片旋轉速度、加速度和時間，實現液體材料（如光刻膠、...
光刻膠烤膠機光刻膠烤膠機在半導體及相關領域的光刻工藝中，主要用于光刻膠的烘烤和固化，確保圖案轉移的**性和工藝穩(wěn)定性
8英寸晶圓烤膠機 8英寸晶圓烤膠機在半導體及相關領域的光刻工藝中，主要用于光刻膠的烘烤和固化，確保圖案轉移的**性和工藝穩(wěn)定性
12英寸聚四氟腔體防腐... 本產品為旋涂儀也稱勻膠機，是利用高速旋轉產生的離心力來涂覆膜料的設備。本型號采用工業(yè)級大功率伺服電機，可實現更好的穩(wěn)定性...
擺臂勻膠機旋涂儀擺臂勻膠機主要利用離心涂覆原理將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，該工藝在材料研究領域有著廣泛...
全自動勻膠機旋涂儀旋涂儀是一種實驗室設備，主要用于制備薄膜材料，其應用范圍包括制備太陽能電池，制備金屬、半導體、氧化物、聚合物等材料的薄膜...
12寸防腐勻膠機旋涂儀 12寸防腐勻膠機旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基...
亞克力八英寸勻膠機帶蠕... 勻膠機可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠凝膠法...
凈化旋涂儀帶加熱臺凈化型勻膠機廣泛用于半導體硅片的勻膠鍍膜等，例如對大型晶圓、芯片、晶片等進行工藝制版時，可用此設備進行各種膠體的表面涂覆...
1000MM勻膠機旋涂... 勻膠機旋涂儀是一種用于制備薄膜的儀器，廣泛應用于材料學、物理學、化學等領域。它的主要工作原理是在高速旋轉的基片上，利用離...
托盤定位勻膠機旋涂儀勻膠機旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠...
PP腔體旋涂儀旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜。主要用于光刻膠旋涂、生物介質制備、溶膠-凝膠法制...
不銹鋼腔體勻膠機勻膠機是一種用于制備薄膜的儀器，廣泛應用于材料學、物理學、化學等領域。它的主要工作原理是在高速旋轉的基片上，利用離心力使...
大型勻膠機旋涂儀本設備為大型勻膠機，采用大功率伺服電機，配合高精度驅動器，可實現對大尺寸樣品的**勻膠實驗
八英寸聚四氟腔體防腐旋... 勻膠機旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠...

豫公網安備 41019702002438號

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