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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:UPS三靶磁控濺射鍍膜機(jī)

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSH325-III-RFRFRF-UPS-SS
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
三靶磁控濺射鍍膜機(jī)是我公司自主研發(fā)的高性價比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標(biāo)準(zhǔn)化,模塊化和可定制的。 該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜,導(dǎo)電膜,合金膜,半導(dǎo)體膜,陶瓷膜,介電膜,光學(xué)膜,氧化物膜,硬膜,PTFE膜等。 與同類設(shè)備相比,這種三靶磁控濺射鍍膜機(jī)不僅用途廣泛,而且具有體積小,操作簡便的優(yōu)點,是實驗室制備材料膜的理想設(shè)備。
詳情介紹:

技術(shù)參數(shù)

項目

明細(xì)

產(chǎn)品型號

CY-MSH325-III-RFRFRF-UPS-SS

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

6KW

系統(tǒng)真空

5×10-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ150mm

加熱溫度

700℃

控溫精度

±1

可調(diào)轉(zhuǎn)速

40rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm,厚度3mm

冷卻模式

循環(huán)水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ325mm,高度385mm

腔體材質(zhì)

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

開啟方式

頂開式

氣體控制

1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

真空系統(tǒng)

配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

濺射電源

配射頻濺射電源,功率500W*3

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

UPS

20KVA 16KW,延遲1小時

16節(jié)電池,容量38AH

設(shè)備尺寸

1090mm×900mm×1250mm

設(shè)備重量

350kg



豫公網(wǎng)安備 41019702002438號

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