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桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜。其核心特點(diǎn)包括：
鋁合金真空腔體：輕量化設(shè)計(jì)，耐腐蝕性好，適合實(shí)驗(yàn)室或小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境。
單靶配置：支持單一靶材（如金屬、合金或氧化物），結(jié)構(gòu)簡單，操作便捷。
磁控濺射技術(shù)：利用磁場約束等離子體，提高濺射效率，形成均勻、致密的薄膜。
桌面設(shè)計(jì)：體積小巧，適合科研院所、高校實(shí)驗(yàn)室等空間有限的場所。
應(yīng)用領(lǐng)域：
該設(shè)備廣泛用于材料科學(xué)、光學(xué)、電子等領(lǐng)域，具體包括：
光學(xué)薄膜：如增透膜、反射膜、濾光片等。
電子器件：半導(dǎo)體電極、導(dǎo)電薄膜（如ITO）、傳感器涂層。
功能材料：耐磨涂層（如TiN）、防腐涂層、超硬薄膜（類金剛石）。
科研實(shí)驗(yàn)：新材料開發(fā)、薄膜性能測試、教學(xué)演示等。
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
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產(chǎn)品名稱 |
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 |
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產(chǎn)品型號 |
CY-MSZ200-I-DC-AL |
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樣品臺(tái) |
外形尺寸 |
φ50mm |
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旋轉(zhuǎn) |
自轉(zhuǎn)+公轉(zhuǎn)角度傾斜2英寸 |
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可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X 150mm |
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腔體材料 |
鋁合金 |
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開啟方式 |
上蓋拆卸式 |
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真空系統(tǒng) |
真空測量 |
復(fù)合真空計(jì)，量程:10-5~105Pa |
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抽氣接口 |
KF25 |
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系統(tǒng)真空 |
1.0E-1Pa（機(jī)械泵） |
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供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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輸出功率 |
直流電源500W |
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其他參數(shù) |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機(jī)功率 |
2kW |
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重 量 |
30kg |
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整機(jī)尺寸 |
385X450X420mm |
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