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產(chǎn)品名稱：雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)
產(chǎn)品型號：CY-MSH500X-II-DCRF-SS
產(chǎn)品廠商：成越科儀
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簡單介紹：

雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)采用靶下置樣品臺在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個靶位，直流射頻雙電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜。

詳情介紹：

CY-MSP500S-DCRF-B雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，設備配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。本型號采用靶下置布局，樣品臺在上方，與靶面高度可通過程序**可調(diào)，并且可旋轉(zhuǎn)加熱，性能優(yōu)異。

技術參數(shù)：

項目

明細

產(chǎn)品型號

CY-MSH500X-II-DCRF-SS

供電電壓

AC220V，50Hz

整機功率

6KW

極限真空度

5x10^-4Pa

載樣臺參數(shù)

尺寸

150mm

高度

上下70mm**可調(diào)

加熱溫度

≤500℃

轉(zhuǎn)速

1-20rpm

磁控濺射頭參數(shù)

數(shù)量

2個2”磁控濺射頭

冷卻方式

水冷，所需流速10L/min

水冷機規(guī)格

10L/min流速的循環(huán)水冷機

真空腔體

腔體尺寸

φ500mm X 490mm H

腔體材料

不銹鋼

觀察窗口

φ100mm

開啟方式

前開門式

氣體流量控制器

1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM Ar；

真空泵

配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S

膜厚儀

石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源1臺，500W，適用于制備金屬膜

射頻電源1臺，500W，適用于非金屬鍍膜

操作方式

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

整機尺寸

1090mm X 900mm X 1250mm

整機重量

350kg

相關產(chǎn)品

項目		明細
產(chǎn)品型號		CY-MSH500X-II-DCRF-SS
供電電壓		AC220V，50Hz
整機功率		6KW
極限真空度		5x10^-4Pa
載樣臺參數(shù)	尺寸	150mm
	高度	上下70mm**可調(diào)
	加熱溫度	≤500℃
	轉(zhuǎn)速	1-20rpm
磁控濺射頭參數(shù)	數(shù)量	2個2”磁控濺射頭
	冷卻方式	水冷，所需流速10L/min
	水冷機規(guī)格	10L/min流速的循環(huán)水冷機
真空腔體	腔體尺寸	φ500mm X 490mm H
	腔體材料	不銹鋼
	觀察窗口	φ100mm
	開啟方式	前開門式
氣體流量控制器		1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM Ar；
真空泵		配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S
膜厚儀		石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?
濺射電源		直流電源1臺，500W，適用于制備金屬膜射頻電源1臺，500W，適用于非金屬鍍膜
操作方式		CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)
整機尺寸		1090mm X 900mm X 1250mm
整機重量		350kg

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產(chǎn)品名稱：雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)

技術參數(shù)：