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- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本設(shè)備為偏置靶型單靶磁控鍍膜儀，磁控靶偏置于腔體一側(cè)，濺射范圍可覆蓋樣品臺(tái)一半，通過(guò)樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)可以實(shí)現(xiàn)更大樣品的均勻鍍膜。理論*大支持樣品直徑為180mm。設(shè)備外形為桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。設(shè)備真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊功能完善便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗(yàn)。
偏置靶型單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
CY-MSZ300G-I-DC-Q 桌面型大腔體偏置靶單靶磁控鍍膜儀
樣品臺(tái)
尺寸
φ150mm
轉(zhuǎn)速
轉(zhuǎn)速0-20rpm可調(diào)
磁控濺射靶
數(shù)量
2” x1 偏置于腔體一側(cè)
真空腔體
腔體尺寸
φ300mm X 200mm
觀察窗口
全向可視
腔體材料
高純石英
開(kāi)啟方式
頂蓋拆卸式
下法蘭
裝有旋轉(zhuǎn)式樣品臺(tái)及進(jìn)出氣口
真空系統(tǒng)
機(jī)械泵
雙級(jí)旋片泵
抽氣接口
KF16
分子泵
渦輪分子泵
抽氣接口
KF40
真空測(cè)量
電阻規(guī)+電離規(guī)復(fù)合真空計(jì)
排氣接口
KF40
極限真空
1.0E-3Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
前級(jí)泵 1.1L/s 分子泵：60L/S
電源配置
數(shù)量
直流電源 x1
*大輸出功率
直流電源300W
其他
供電電壓
AC220V,50Hz
整機(jī)尺寸
500mm X 320mm X6200mm
整機(jī)功率
2kW
