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產品詳情
  • 產品名稱:四英寸四靶靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:CY-3DC+1RF
  • 產品廠商:成越科儀
  • 產品文檔:
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簡單介紹:
用于金屬+非金屬 鈦膜、金膜、鉻膜、二氧化硅薄膜生長多層薄膜的制備,在電子領域、光學領域、有機物等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備
詳情介紹:

本設備系統(tǒng)主要由濺射室、加熱旋轉基片臺、磁控靶組件,濺射電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng),安裝機臺等部分組成,本系統(tǒng)配有磁控靶及電源,多靶材傾斜共濺射的方式沉積薄膜,設備配置一套強磁靶,三套永磁靶,四靶磁控鍍膜儀,可用于金屬+非金屬 鈦膜、金膜、鉻膜、二氧化硅薄膜生長多層薄膜的制備,在電子領域、光學領域、有機物等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。 

設備配有四個磁控靶,三套直流電源和一套射頻流電源可以分別獨立控制,,靶置于底部傾斜共濺射,靶基距自動可調,磁控靶帶有靶材原位清洗功能可用于鍍多層導電金屬膜。同時設備配置手動磁力傳遞桿,取送1片基片裝置,這樣的設計能夠減少主腔室抽放真空的次數(shù),不僅能有效節(jié)省時間,更能保證更好的本地真空,減少污染,方便使用有效提高鍍膜質量。本設備水冷腔體,樣品臺可加熱至800攝氏度,旋轉功能.

技術參數(shù):

供電電源

220, 50Hz





位置

上部

直徑尺寸

6 英寸(兼容小尺寸基片)

樣品臺升降距離

90mm-130mm 電動升降 調整交接位置離子能量調節(jié)裝置1套

可調轉速

0-20rpm 可調

加熱溫度

RT~800℃ 控溫精度±1℃,采用合金加熱片加熱器(24 小時連續(xù)加熱 800 小時無故障)離子能量調節(jié)裝置 1 套,改善應力分布,有助于減少膜層開裂翹曲風險




主腔體尺寸

D500X500

送樣室

過渡傳送樣品腔體

300mm*220*110mm具備自動傳送樣品功能

腔體材料

304 不銹鋼

烤氣和照明

具備內烘烤除氣功能,具備腔外照明功能

內壁處理

電解拋光

密封方式

氟橡膠密封

開門方式

手動鋁合金前開門

觀察窗口

φ100mm(帶擋板)



膜厚均勻性

≤±5%

樣品傳輸

手動磁力傳遞桿

取送1片基片



數(shù)量

1RF+3DC,配電動擋板,一套強磁靶,三套永磁靶 可以鍍金、鈦、鉻、二氧化硅以及其他任何金屬和非金屬膜層

強磁靶:1套,尺寸3英寸75mm(用于濺射磁性材料薄膜,靶材厚度2mm 范圍內),直流

永磁靶1套,尺寸3英寸75mm; 直流

永磁靶1, 尺寸3英寸75mm 直流

射頻靶1   尺寸3英寸75mm 射頻


擺頭角度

可調角度-45~45

濺射方向

向上濺射

靶材平面

圓形平面靶

靶材直徑

3英寸

靶材厚度

*厚3mm




數(shù)量

3臺

電源功率

500W

輸出電壓

0~800V

模式

電源可支持恒流、恒壓、恒功率三種模式

直流電源工作壓力范圍

 0-100pa

*大輸出電流

1A大于0.75A

連續(xù)工作時間

24 小時

啟動時間

1~10S




數(shù)量

1臺 600W

功率

輸出功率:600W
射頻頻率:13.56 MHz
匹配方式:自動匹配
反射功率:≦100W(匹配后反射功率為0
電源穩(wěn)定性:±0.1%
射頻輸出連接器:N型連接器自動匹配器
整機效率≥75%
諧波分量≦-50 dbc
冷卻方式:強制風冷
使用環(huán)境溫度:-10℃-40℃

陽極層離子源

數(shù)量

1臺

功率

對基片進行清洗,1套,配套擋板組件,*大離子能量≥700eV;



監(jiān)

通道數(shù)

單通道

測量精度

0.1 ?

測量速度

100ms-1s/次,可設置測量范圍:500000?(鋁)

標準傳感器晶體

6MHz

適用晶片尺寸

Φ14mm




統(tǒng)

前級泵

雙極旋片泵*2  1 套旋片真空泵抽速≥13L/S,1 套旋片真空泵抽速≥8L/S;


渦輪分子泵

數(shù)量:2

1 套濺射室分子泵抽速2000L/s

1 套進樣室分子泵抽速600L/s

額定轉速:27000rpm

啟動時間:≦5min

冷卻方式:水冷

進氣接口:ISO150

出氣接口:KF40

真空度

濺射室:≤8.0x10-6Pa(經烘烤除氣后);

進樣室:≤6.6x10-4Pa(經烘烤除氣后)

從大氣開始抽氣:濺射室30分鐘可達到6.6x10-4Pa

保壓性能

系統(tǒng)停泵關機12小時后真空度:≤5Pa

真空測量

復合真空計,測量范圍10-5Pa ~ 105 Pa

濺射室:1x105Pa-1x10-7Pa,進樣室:1x105Pa-1x10-5Pa,工藝薄膜規(guī)    13.3pa;




冷卻水流速

CW500010L/min

整機功率

冷卻水循環(huán)機制冷量 6.2KW

冷卻功率

50W/℃

水箱容量

9L

氣體控制

4路質量流量控制器:

氬氣:0-200SCCM(準確度:±1.5%F.S),

氮氣:0-100SCCM(準確度:±1.5%F.S),

氧氣:0-100SCCM(準確度:±1.5%F.S),

甲烷氣:0-200SCCM(準確度:±1.5%F.S),

配有混氣罐可以實現(xiàn)自動氣體攪拌裝置 1 套;


空壓系統(tǒng)

 ≥140L/min  1

控制系統(tǒng)

由工控機和PLC實現(xiàn)對整個系統(tǒng)的控制,

有自動和手動控制兩種功能,

操作過程全部在觸摸屏上實現(xiàn),

提供配方設置、真空系統(tǒng)、磁控系統(tǒng)、工藝系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等人機操作界面;

在工控機上可通過配方式參數(shù)設置方式實現(xiàn)對程序工藝過程和設備參數(shù)的設置PLC自動控制

10.5英寸觸摸屏

自動鍍膜程序:

具備長膜程序設置,程序設置數(shù)量>10

具各工藝記錄長膜過程參數(shù)功能

其他

配備工具箱1套,空氣壓縮機排氣量≥140L/min,數(shù)量≥1套;冷卻水循環(huán)機制冷

≥6.2KW,數(shù)量≥1套。100*100mm  樣品托≥10  件,其中≥5件盲托并配陣列螺釘孔,≥5件掩膜托。外置氣體質量流量控制器≥2套,Air介質(內置氣體可切換≥98),量程范圍≥0200sccm,質量流量精度≤±0.6%讀數(shù)或±0.1%滿量程(取*大值),可現(xiàn)場編輯混合氣體≥5種,顯示屏同時顯示質量流量、體積流量、壓力、溫度等。外置氣體質量流量控制器≥1套,帶流量顯示儀,量程范圍≥0200sccm,準確度:≤± 1.5%F.S

閥門

電控氣動閘板閥

電控氣動切斷閥

電控氣動旁抽閥

尺寸

1700mm*1000mm*1750mm





豫公網安備 41019702002438號

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